2025年央美摄影专业学什么

中央美术学院的摄影专业旨在培养具有较高审美素养、创造力和实践能力的摄影人才。课程设置包括以下几个方面：

基础课程：

包括摄影史、艺术史、创意写作、视觉艺术等，旨在提高学生的基本技能和素质。

专业课程：

涵盖影像语言、影像制作、影像表达等方面，包括摄影、影像处理、数字艺术等，旨在提高学生的专业技能和实践能力。

选修课程：

提供摄像、灯光、美术史等各个方面的学习机会，开发学生潜力。

实践课程：

通过各种实践性课程，如绘画、摄影、制作、展览等，让学生获得更多的实践经验和技能培养。

毕业设计：

作为摄影专业的一项重要任务，学生需要完成一项毕业设计作品。

集中授课内容模块：

包括摄影艺术概论、摄影器材研究、摄影类型学、布光原理、商业摄影、图像中的艺术思考、传统摄影、建筑摄影、数字修饰与编辑等。

写生课程：

根据防疫要求，外出费用自理。

其他课程：

如艺术概论、影视美学、绘画基础、平面构成、三维动画设计、色彩学、摄影技术、摄影构图、照明技术与艺术、视听语言、影视精品赏析、影视摄影艺术、纪录片创作、电视编辑、摄影创作、数字节目制作、剪辑艺术、导演艺术等。

这些课程设置旨在全面提升学生的摄影技能和审美能力，使其具备扎实的专业水平，能够胜任摄影创造、设计、管理、教育等方面的工作。